產品特點



- 兼容玻璃和wafer蒸鍍

- Inline Type

- 標準化

- 模塊化

- 成膜均勻性高

- 膜厚穩定性高

- 速率穩定性高

核心技術



- 蒸鍍模擬技術

- 定制化產品,可配置線源、點源或電子束

- 具備Auto PID,蒸鍍穩定,成膜均勻

- log分析技術

- 產品成熟,運營穩定

規格參數




S1200R鈣鈦礦蒸鍍機

規格參數

基板尺寸

兼容1200*600mm以下玻璃基板和硅片

膜厚均勻性

≤3%

速率穩定性

≤±3%,@1?/s

 對位精度

≤±150μm(機械對位)

 系統控制

 控制系統PLC,PC (GUI S/W)



規格參數




S1200R鈣鈦礦蒸鍍機

規格參數

基板尺寸

兼容1200*600mm以下玻璃基板和硅片

膜厚均勻性

≤3%

速率穩定性

≤±3%,@1?/s

 對位精度

≤±150μm(機械對位)

 系統控制

 控制系統PLC,PC (GUI S/W)



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