硅基蒸鍍設備

應用場景:適用于AR/VR近眼顯示、智能穿戴等Micro OLED面板量產


產品特點



– 基板尺寸8英寸和12英寸

– Cluster Type

– 標準化

– 模塊化

– 成膜均勻性高

– 光學對位

– 運營穩定

核心技術



– CCD高精密對位技術

– 模塊化設計,可以滿足客戶多樣化定制需求

– 高信賴性,可實現長時間穩定稼動生產   

規格參數



硅基蒸鍍設備

規格參數

 基板

 8英寸 or 12英寸 wafer

 生產節拍

 最快5分鐘 (區分鍍層)

 生產時間

 ≥144小時

 膜厚均勻性

 有機材料:≤2% (片內);≤3%(片間)

 金屬材料:≤3% (片內);≤2%(片間)

 速率穩定性

 0.01?/s- 3?/s

 有機材料:Host ≤±2%,@1.0?/s

 Dopant:≤±3%,@0.01?/s

 金屬材料:≤±2%,@1.0?/s;≤±3%,@0.01?/s

 光學對位

 ≤±3μm(CCD)

 系統控制

 控制系統PLC,PC (GUI S/W)

規格參數



硅基蒸鍍設備

規格參數

 基板

 8英寸 or 12英寸 wafer

 生產節拍

 最快5分鐘 (區分鍍層)

 生產時間

 ≥144小時

 膜厚均勻性

 有機材料:≤2% (片內);≤3%(片間)

 金屬材料:≤3% (片內);≤2%(片間)

 速率穩定性

 0.01?/s- 3?/s

 有機材料:Host ≤±2%,@1.0?/s

 Dopant:≤±3%,@0.01?/s

 金屬材料:≤±2%,@1.0?/s;≤±3%,@0.01?/s

 光學對位

 ≤±3μm(CCD)

 系統控制

 控制系統PLC,PC (GUI S/W)

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